Válvulas de Diafragma para ALD y ALE

Las Válvulas de Diafragma para ALD y ALE de FITOK están diseñadas específicamente para aplicaciones de Atomic Layer Deposition (ALD) y Atomic Layer Etching (ALE), donde la precisión, la estabilidad del caudal y la mínima generación de partículas son esenciales. Estos procesos permiten depositar capas ultrafinas a escala atómica, fundamentales en la fabricación avanzada de semiconductores, donde las tecnologías tradicionales ya no son suficientes para responder a la reducción constante del tamaño de nodo.

Estas válvulas están disponibles en modelos estándar, térmicos e inmersión térmica, operando en rangos de temperatura desde 0 °C hasta 220 °C según el modelo, y soportan presiones de vacío hasta 10 bar (modelo estándar/térmico) o hasta 4.8 bar (modelo de inmersión térmica). Para adaptarse a distintas configuraciones de instalación, pueden equiparse con sensores de posición, válvulas solenoides giratorias que facilitan el ajuste del actuador, así como cuerpos con orificios para cartucho calefactor y termopar, ofreciendo máxima flexibilidad en sistemas complejos.

Las Válvulas de Diafragma de FITOK garantizan un suministro extremadamente preciso de gases durante el proceso de deposición, ofreciendo una operación fiable incluso en las condiciones más exigentes. Su diseño avanzado proporciona una vida útil excepcional, respuesta ultrarrápida y un Cv altamente consistente, asegurando un rendimiento estable en cada ciclo.

Beneficios:

• Ciclo de vida ultra largo
• Sin espacios muertos en el paso de flujo
• Alta consistencia y estabilidad del Cv
• Respuesta rápida: tiempo total de apertura/cierre inferior a 15 ms
• Modelos opcionales: estándar, térmico e inmersión térmica
• Compatible con solenoides giratorios para ajuste fácil