En LEXIER conocemos los requisitos de limpieza, acabado superficial y estanqueidad de las líneas de gases de proceso. Te ayudamos a elegir los componentes de alta pureza adecuados para cada punto de la instalación.
La fabricación de semiconductores y microelectrónica exige sistemas de distribución de gases de ultra alta pureza (UHP): cualquier partícula, humedad o contaminante metálico en la línea puede afectar al rendimiento de las obleas. Por ello, válvulas, racores y tubería deben tener superficies electropulidas, un volumen interno mínimo y ausencia de espacios muertos.
En procesos como la deposición de capas atómicas (ALD), el grabado de capas atómicas (ALE) o la deposición química en fase vapor (CVD), las válvulas deben además ofrecer ciclos de apertura muy rápidos y una larga vida útil, y las líneas de gases peligrosos suelen requerir tubería coaxial de doble contención.
FITOK ofrece una gama completa para estas aplicaciones: válvulas de diafragma para ALD, válvulas de distribución en bloque, racores para soldar y tubería electropulida y coaxial.
Nuestras alianzas con fabricantes de válvulas y componentes líderes a nivel mundial nos permiten ofrecer a nuestros clientes productos de máxima calidad, fiables y duraderos.
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